Керамический шар из нитрида кремния диаметр мм высокоточный керамический Si3N4
2 840,75 руб.
Новое поступление
99 материал глинозема керамический лист 139*189*1 мм теплоизоляция изоляционный
1 666,57 руб.
Многослойный Графен/Графен порошок/1 5 слойный Графен порошок/100 г в упаковке|graphene
15 150,66 руб.
2 шт. настенный напольный фланец из ковкого железа 1/2 дюйма 3/4 дюйма|Фланцы| |
377,25 - 1 704,45 руб.
Износостойкий керамический лист из оксида алюминия износостойкий 25*50*10 мм
454,52 руб.
99% Корундовая пластина из глинозема/тигельная крышка/высокая температура 1600
227,26 руб.
99.5% Al2O3 Высокая носимая круглая Корундовая пластина OD100 * 7 мм/алюминиевая
1 325,68 руб.
Высокочистые однослойные нанотрубки порошок/размер частиц 1 2 нм/tube1 3um/короткие
37 876,65 руб.
Характеристики
Одинарная кристальная Кремниевая пластина/10 0*10 0*0 65 мм Si подложка/двухсторонняя
История изменения цены
*Текущая стоимость 10 794,85 уже могла изменится. Что бы узнать актуальную цену и проверить наличие товара, нажмите "Добавить в корзину"
| Месяц | Минимальная цена | Макс. стоимость | Цена |
|---|---|---|---|
| Apr-06-2026 | 12845.32 руб. | 13487.8 руб. | 13166 руб. |
| Mar-06-2026 | 12737.18 руб. | 13374.33 руб. | 13055.5 руб. |
| Feb-06-2026 | 10686.89 руб. | 11220.59 руб. | 10953 руб. |
| Jan-06-2026 | 12521.31 руб. | 13147.0 руб. | 12834 руб. |
| Dec-06-2025 | 10902.48 руб. | 11447.21 руб. | 11174.5 руб. |
| Nov-06-2025 | 12305.15 руб. | 12920.24 руб. | 12612.5 руб. |
| Oct-06-2025 | 12197.20 руб. | 12807.50 руб. | 12502 руб. |
| Sep-06-2025 | 12089.67 руб. | 12693.97 руб. | 12391 руб. |
| Aug-06-2025 | 11981.79 руб. | 12580.40 руб. | 12280.5 руб. |
Описание товара
ОдиночныйБоковая полировка одинарного кристалла кремния
Характеристики:
Монокристаллическая Силиконовая подложка
1. Длина 10 мм, ширина 10 мм, толщина 0,65 мм , С одной стороны Толщина оксида 300 нм. 2. Одна сторона Полированный 3,100 штук P Тип 4.Допинг элменtТип P-BМатериал:
Монокристаллический Кремний высокой чистоты, двухсторонняя полировка, удельное сопротивление: 0,0001-100Использование:
1. PVD/CVD покрытие подложки
2. Используется как XRD (рентгеновский Дифракционный анализ), SEM (сканирующий электронный микроскоп), AFM (атомный силовой микроскоп), FTIR инфракрасный, флуоресцентная спектроскопия и другие аналитические испытательные подложки
3. Экспериментальный носитель образцов синхротронного излучения
4. Подложка для молекулярного пучка эпитаксиального выращивания
5. Процесс литографии полупроводников и так далее
Смотрите так же другие товары: